Hellma 總部坐落于德國耶拿光學谷，擁有近百年光學精密制造經驗，旗下 Hellma Materials 專注光學晶體、精密光學元件研發生產，承襲原肖特（Schott Lithotec）光刻級晶體核心技術，是全球少數掌握端氟化鈣（CaF?）晶體規模化生產的企業之一。品牌秉持 “When every photon counts®" 的技術理念，以嚴苛的品控標準、的晶體生長與精密加工工藝，產品光譜覆蓋 130nm 深紫外至 14μm 遠紅外全波段，遠銷全球數十個國家，在工業激光、精密光學等領域樹立了 “高純度、高均勻性、高穩定性" 。

二、核心產品：激光級光學晶體，適配國內全場景激光應用

1. 氟化鈣（CaF?）晶體：激光工業 “全能型核心材料"

• 超寬波段高透射：透光范圍覆蓋 130nm（深紫外）至 9μm（紅外），193nm 波長下內透過率超 99.3%/cm，無明顯吸收損耗，適配紫外、可見光、紅外全波段激光系統，助力激光設備提升能量利用率。

• 超低色散高均勻性：折射率 nd=1.43384，阿貝數 vd=95.23，色散系數僅為普通光學玻璃的 1/5，可最大限度消除色差；折射率均勻性優于 0.5ppm@633nm，杜絕波前畸變，保障激光光束一致性與聚焦精度，適配激光打標、切割、精密雕刻等高精度場景。

• 超高激光耐久性：針對 157nm、193nm、248nm 準分子激光專項優化，激光損傷閾值超 10J/cm2@193nm，遠高于石英玻璃及普通 CaF?材料；長期高能量脈沖激光輻照下無燒蝕、無透射率衰減，應力雙折射控制在≤0.5nm/cm，大幅延長激光諧振腔、窗口、聚焦透鏡等核心器件壽命，降低設備維護成本。

• 優異熱學與機械性能：熱導率達 9.71W/(m?K)，可快速散除高功率激光產生的熱量，避免熱致畸變；大氣下使用溫度達 600℃，真空干燥時可達 800℃，機械強度高、抗潮解、耐化學腐蝕，適配工業現場復雜嚴苛工況。

2. 產品等級與定制服務：貼合國產激光設備差異化需求

• DUV 級（157–193nm）：超高均勻性（≤0.5ppm）、極低雙折射（≤0.5nm/cm），適配深紫外準分子激光打標、微細加工設備。

• UV 級（193–400nm）：折射率均勻性≤1ppm，雙折射≤1nm/cm，用于紫外激光雕刻、激光檢測儀器。

• IR 級（0.78–9μm）：紅外透過優化，適配高功率 CO?激光切割、焊接設備及紅外激光雷達。

  同時支持全流程定制服務：尺寸可定制 φ250mm 單晶、φ440mm 多晶，厚度最大 250mm；晶向可選 <100>、<111 > 等主流方向；表面可做研磨、拋光（λ/10、λ/20）、超精密拋光處理，可加工成圓盤、棱鏡、透鏡、窗口片等多種形態，無縫適配國產激光設備的差異化裝配需求。

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三、國內激光工業核心應用場景

1. 激光加工設備

• 激光切割 / 焊接設備：IR 級 CaF?晶體作為紅外激光窗口、聚焦透鏡，耐受高功率激光沖擊，散熱快、變形小，提升切割焊接精度與穩定性，適配金屬板材、管材加工設備。

• 紫外激光打標 / 雕刻設備：DUV/UV 級 CaF?晶體用于諧振腔鏡、光束傳輸窗口，高激光耐久性保障長期連續工作，標記清晰、無邊緣毛刺，廣泛應用于電子元器件、五金、塑膠制品打標。

• 超快激光微細加工設備：低色散、高均勻性特性，適配飛秒 / 皮秒激光鉆孔、蝕刻、微結構加工，保障加工精度達微米級，滿足新能源、半導體等領域精密加工需求。

2. 激光檢測與精密光學儀器

• 激光干涉儀、激光測長儀：CaF?晶體作為核心光學元件，低應力雙折射避免偏振畸變，保障測量精度，適配工業精密檢測、計量設備。

• 激光粒度儀、光譜分析儀：高透射率、低色差特性，提升檢測數據準確性，用于化工、建材、醫藥等行業顆粒檢測與成分分析。

3. 激光設備核心組件

• 激光諧振腔：高均勻性保障光束模式穩定，提升激光輸出功率與光斑質量。

• 光束傳輸系統：激光窗口、分束鏡采用 LD-A 級激光耐久性晶體，長期工作無性能衰減，降低設備故障率。

四、選擇 Hellma 的核心價值：助力國產激光產業降本增效

1. 提升設備性能上限：光學性能對標國際頂尖標準，助力國產激光設備突破精度、穩定性瓶頸，縮小與國際設備差距。

2. 降低全生命周期成本：高激光耐久性、長使用壽命，減少核心器件更換頻率，降低設備停機維護時間，提升生產效率。

3. 適配國產產業升級：多等級、定制化服務，貼合國內中端激光設備研發生產需求，助力激光產業向高精度、高功率、高穩定性方向升級。